近日，中共宣布成功突破EUV光刻機技術，這對於中國半導體業來說是一大突破。EUV光刻機是當今最先進的半導體製程技術之一，能夠實現更小、更快的晶片製造，有助於提升中國半導體產業的國際競爭力。

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